硅烷在半導體工業(yè)中主要用于制作高純多晶硅、通過氣相淀積制作二氧化硅薄膜、氮化硅薄膜、多晶硅隔離層、多晶硅歐姆接觸層和異質(zhì)或同質(zhì)硅外延生長原料、以及離子注入源和激光介質(zhì)等，還可用于制作太陽能電池、光導纖維和光電傳感器等。硅烷廣泛應用于微電子、光電子工業(yè)?？捎糜谥圃旄呒兌榷嗑Ч琛尉Ч?、微晶硅、非晶硅、氮化硅、氧化硅、碳化硅、異質(zhì)硅、各種金屬硅化物等。因為它高純度和能實現(xiàn)精細控制,已成為許多其他硅源無
硅烷在半導體工業(yè)中主要用于制作高純多晶硅、通過氣相淀積制作二氧化硅薄膜、氮化硅薄膜、多晶硅隔離層、多晶硅歐姆接觸層和異質(zhì)或同質(zhì)硅外延生長原料、以及離子注入源和激光介質(zhì)等，還可用于制作太陽能電池、光導纖維和光電傳感器等。
硅烷廣泛應用于微電子、光電子工業(yè)?？捎糜谥圃旄呒兌榷嗑Ч?、單晶硅、微晶硅、非晶硅、氮化硅、氧化硅、碳化硅、異質(zhì)硅、各種金屬硅化物等。因為它高純度和能實現(xiàn)精細控制,已成為許多其他硅源無法取代的重要特種氣體。
硅烷氣是太陽能電池生產(chǎn)過程中不可或缺的材料，因為它是將硅分子附著于電池表面的最有效方式。在高于400℃的環(huán)境下，硅烷氣分解成氣態(tài)硅和氫氣。氫氣燃燒后，剩下的就是純硅了。此外，硅烷氣可以說是無處不在。除了光伏產(chǎn)業(yè)外，還有很多制造工廠需要用到硅烷氣，如平板顯示器、半導體、甚至鍍膜玻璃生產(chǎn)廠。
硅烷 硅烷氣體 5N高純硅烷氣
英文名稱：Sulfane
CAS號：7803-62-5
分子式：SiH4
分子量：32.12
規(guī)格：99.999%
包裝：44L、47L鋼瓶充裝，也可根據(jù)客戶需要，分裝到8L的氣瓶中
熔點(101.325kPa)： -185.0℃
沸點(101.325kPa)： -111.5℃
液體密度(-185℃)： 711kg/m3
氣體密度(0℃，100kPa)： 1.42kg/m3
相對密度(氣體，空氣=1，20℃，101.325kPa)：1.114
比容(21.1℃，101.325kPa)： 0.7518m/kg
氣液容積比(15℃，100kPa)：412L/L
臨界溫度： -3.4℃
臨界壓力：4843kPa
+86-021-36100316
Room 709, 55 Feila Road, China (Shanghai) Pilot Free Trade Zone
08:00-19:00
